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罗腾蛟;
上海北电半导体有限公司;
集成电路; 光掩模技术; 微米集成电路;
机译:Selete的EULE掩模掩模缺陷减少技术扩展到EUVL掩模的光掩模缺陷检查和修复技术即使掩模尺寸为100 nm,也可以实现高精度的检查图像对比度
机译:数字相干系统光集成电路技术的现状与展望
机译:扫描型开发技术,可提高半导体光掩模的精度:支持先进半导体器件制造的光掩模图案的精度更高
机译:使用种子掩模技术的GaAs-on-InP光电集成电路(OEIC)的水平集成制造:四通道可变带宽光接收器
机译:用于铬光掩模的非接触式临界尺寸计量传感器,采用低温共烧陶瓷技术实现。
机译:具有鲁棒光干扰补偿的低功耗光电容积脉搏波采集集成电路
机译:平面结构自动控制设备在光掩模集成电路拓扑结构原件生产中的应用
机译:半导体测量技术:集成电路光掩模上的精确线宽测量
机译:集成电路改进的隔离光刻技术,该方法具有施加的第一掩模中心孔/外围孔光剂量和第二掩模单个中心孔光使总剂量高于临界值。
机译:一种半导体集成电路的制造方法,该方法包括:使用第一光掩模对半导体衬底进行图案化,该第一光掩模使用金属来阻挡光;使用第二光掩模对同一衬底进行图案化,该第二光掩模使用有机树脂来阻挡光。
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