等离子体增强热丝化学气相沉积法生长c-BN薄膜

摘要

本文用射频等离子体增强热丝化学气相沉积(RD-HFCVD)技术在Ni衬底表面合成了c-BN膜，实践证明，热丝温度Tf、衬底温度Ts、是影响薄膜质量的主要因素。