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电化学制备纳米金属多层膜与多层纳米线

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分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征.通过对此,分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.在此工作基础上,以多孔铝阳极氧化膜(AAO)为模板,在纳米孔内沉积Cu/Co多层线,并采用TEM对多层线进行了表征.

著录项

来源
《天津市电镀工程学会第九届学术年会》|2002年|139-143|共5页
会议地点天津
作者
迟广俊; 冯钊永; 赵瑾; 姚素薇;
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作者单位

天津市电镀工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;薄膜技术;
关键词
电沉积; 纳米金属多层膜; 金属多层纳米线;

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