一种高强度高塑性铜铝纳米金属多层膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种高强度高塑性铜铝纳米金属多层膜的制备方法，采用磁控溅射技术，通过对单层厚度为100nm的多层膜进行低温真空退火，铜层和铝层交替更迭，制备单层厚度较大的Cu/Al多层膜，采用真空低温退火工艺来保留纳米金属多层膜较大的单层厚度同时在界面处引入合金，获得塑性较好且强度与硬度较高的多层膜。通过这种方法实现了不添加元素的情况下获得高强度高塑性的铜铝纳米金属多层膜。