退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
陈特超; 李军阳; 禹庆荣; 张冬艳; 李健志; 周大良; 任伟; 任伟;
中国电子学会;
RIE; 刻蚀; 工艺原理; 高选择比;
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE)的多晶金刚石表面形貌演变
机译:基于DOE建模的反应离子刻蚀(RIE)CD的关键作用和工艺参数提取
机译:通过电感耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE)和Ⅲ-Ⅴ材料的原子层刻蚀(ALE)进行低损伤刻蚀,以实现下一代器件性能。
机译:使用纳米球面光刻和RIE刻蚀制造二维纳米结构阵列及其在光学器件中的应用。
机译:通过深度反应离子刻蚀朝着微创诊断的方向制造锋利的硅空心微针
机译:通过反应离子刻蚀实现无光刻的高纵横比亚微米石英柱
机译:等离子体诱导损伤对离子注入Gaas mEsFET在反应离子刻蚀(RIE)和等离子体灰化过程中通道层的影响。
机译:通过掩膜和反应离子刻蚀(RIE)技术的覆盖公差
机译:通过面膜和反应离子刻蚀(RIE)技术实现重叠
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。