University of Delaware.;
机译:脉冲等离子体增强化学气相沉积系统的等离子体和气相表征,该系统设计用于氧化铝薄膜的自限生长
机译:椭圆偏振光谱法表征超高频等离子体增强化学气相沉积法沉积微晶硅薄膜的微观结构
机译:等离子体增强了CH_4-CO_2等离子体中a-C:H薄膜的化学气相沉积:气体成分和基材偏向对薄膜结构和生长过程的影响
机译:生长参数对等离子体增强化学气相沉积硅氧膜的折射率和薄膜组成的影响
机译:等离子体增强了硅-硫和磷-硫系统中薄膜和新结晶模型化合物的化学气相沉积。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响