改变旋涂速率制备有序介孔SiO2薄膜结构的正电子湮没和X射线反射率技术表征

摘要

本工作采用溶胶-凝胶法通过改变旋涂速率制备具有三维六角和三维立方结构的介孔SiO2薄膜，并通过慢正电子湮没技术以及同步辐射小角X射线反射率研究其介孔结构随旋涂速率的变化。