二次电子
二次电子的相关文献在1957年到2022年内共计389篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、物理学、原子能技术
等领域,其中期刊论文123篇、会议论文16篇、专利文献1166327篇;相关期刊73种,包括吉林大学学报(理学版)、真空与低温、分析仪器等;
相关会议14种,包括中国物理学会第十八届全国静电学术年会、2012年广东省真空学会学术年会、中国核学会2011年年会等;二次电子的相关文献由850位作者贡献,包括崔万照、胡天存、杨晶等。
二次电子—发文量
专利文献>
论文:1166327篇
占比:99.99%
总计:1166466篇
二次电子
-研究学者
- 崔万照
- 胡天存
- 杨晶
- 张娜
- 王瑞
- 李韵
- 贺永宁
- 王新波
- 吴胜利
- 胡文波
- 何佳龙
- 刘平
- 李杰
- 李洁
- 杨洁
- 王韬
- 石金水
- 董攀
- 赵伟
- 丁泽军
- 封国宝
- 常天海
- 张洪太
- 曹猛
- 王多书
- 苗光辉
- 谢贵柏
- 刘尔祥
- 刘术林
- 彭宇飞
- 李喜
- 李晨
- 李永东
- 杨振
- 杨生胜
- 柳青
- 王玉漫
- 王琪
- 秦晓刚
- 蓝朝晖
- 郑乐
- 闫保军
- 陈益峰
- 魏强
- 龙继东
- 何鋆
- 史亮
- 叶鸣
- 温凯乐
- 郝玲
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李鹏飞;
袁华;
程紫东;
钱立冰;
刘中林;
靳博;
哈帅;
万城亮;
崔莹;
马越;
杨治虎;
路迪;
Reinhold Schuch;
黎明;
张红强;
陈熙萌
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摘要:
分别对裸的直玻璃管和外壁与出入口两端面涂导电银胶的直玻璃管进行了低能电子穿透实验.穿透电子的倾角分布显示,穿透电子强度随倾角增大而减少,并且穿透倾角不会超过玻璃管的几何张角.还测量了玻璃管在倾角为-0.2°时的充电过程.对于裸玻璃管,在充电过程中,穿透率和角分布有显著的振荡现象.整体来看,穿透率随时间先下降后上升,最后在某个平均值附近振荡;角分布随穿透率变化同步变化,先向正角度移动再向负角度移动,最后在玻璃管的倾角附近振荡.对于涂导电胶的玻璃管,在充电过程中,穿透率和角分布稳定变化.穿透率随时间先下降后上升最后平稳,角分布随时间先向负角度移动再向正角度移动,最后在玻璃管倾角附近稳定.通过模拟电子与SiO;材料的碰撞过程,提出了电子在裸玻璃管和涂导电胶玻璃管中的充电过程的物理图像.该物理图像能很好地解释电子在裸玻璃管和涂导电胶的玻璃管中充电过程的实验结果.最后,依据实验结果和物理图像给出了低能电子在玻璃毛细管中稳定输运的条件.
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汪一聪;
王丹;
李嘉铭;
余红华;
江丹;
曾丽珍;
孙峰
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摘要:
利用扫描电镜对不锈钢板与玻璃板激光焊接样品不经镀膜直接进行显微观察。扫描电镜分别梯度设置一系列一次电子加速电压与E-T二次电子探测器前端栅网上的一系列偏压,观察样品表面荷电现象的变化。结果表明:在同样的加速电压下,上述栅网偏压越低,样品表面的荷电现象越弱,当栅网偏压降低至足够低时荷电现象消失。另外,在加速电压越低时,刚好足够令荷电现象消失的栅网偏压越高,此时电镜条件有利于图像质量的改善。对上述栅网偏压对荷电现象的影响机理给出了解释——栅网偏压影响探测器接收二次电子与背散射电子数量的比例,进而影响荷电现象的轻重。
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叶鸣;
王丹;
贺永宁
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摘要:
二次电子发射系数(secondary electron yield,SEY)的抑制对提高空间大功率微波部件的微放电阈值、降低粒子加速器发生电子云效应的风险等具有重要意义。针对现有圆柱形柱状阵列SEY抑制方法,未考虑实际加工工艺可能导致柱体形貌偏差,进而影响SEY抑制效应的问题,结合二次电子发射唯象概率模型和电子运动轨迹射线追踪法,研究了圆形、方形、圆锥形、截断圆锥形、方锥形、沙漏形及螺纹形柱状阵列的SEY。模拟结果表明:与理想圆柱形柱状阵列相比,方形、方锥形、螺纹形柱状阵列的SEY抑制效应与圆柱阵列基本相同(差异小于~6%),而其余几种形状的柱状阵列的SEY抑制效应略逊于理想圆柱阵列。因此,从SEY抑制效应角度看,圆柱形柱状阵列具有较好的工艺容差性能。研究结果为柱状阵列结构在SEY抑制领域的工程化研究与应用提供了参考。
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杨兆伦;
魏焕;
张雨婷;
崔万照
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摘要:
航天器的工作离不开大功率信号的传输,而微放电效应是严重影响星载微波部件性能和安全的瓶颈问题之一,消除微放电效应可称得上是大功率设计的必经之路,因此大功率微波部件在随卫星发射之前需要进行严格的微放电测试验证。欧洲空间标准化组织在2003年的系列标准中首次添加了微放电检测部分,建立起微放电分析和检测的大纲雏形,经过数年的技术发展,微放电手册版本更新修订,不断完善分析检测方法,相关影响因素、操作流程及注意事项。以欧洲最新微放电手册为例,介绍了微放电相关技术的进展,列举了常用的微放电设计分析方法,微放电检测方法和测试流程,同时介绍了二次电子的检测部分,可为微放电相关研究提供参考借鉴。
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岳乃琳;
刘红艳;
张伟
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摘要:
以JSM-7900F型场发射扫描电子显微镜为例,讨论二次电子和背散射电子在形貌表征中的应用,利用该仪器配备的3种探头,通过优化实验条件,对具有纳米尺度的样品进行形貌观察,对比分析成像效果,并讨论各实验条件的影响因素.结果表明,利用背散射探测器结合电子束减速模式可对玻璃表面几纳米的颗粒成像,图像信噪比较高,成像效果优于高分辨模式即高位电子探头,拓展了背散射电子在高分辨成像中的应用.
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方键威;
洪远志;
王一刚;
尉伟;
朱邦乐;
葛晓琴;
卞抱元;
张文丽;
王勇
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摘要:
在合肥先进光源(HALF)建设中,由低温超导材料组成的真空部件被大量使用,尤其是超导高频腔.超导腔以高加速梯度、低束流阻抗、高无载品质因数和低运行成本等特点,成为21世纪国际上拟建的大型加速器的首选.而超导腔和低温真空室内表面的二次电子发射可能会引发电子云(EC)现象.超剂量的二次电子倍增功率沉积会引起低温区域热负载增加、超导腔失超等现象,因此降低超导高频腔内二次电子发射成为合肥先进光源设计过程中的巨大挑战.在常温材料二次电子产额(SEY)测试系统的基础上,作者自主研发设计低温样品架结构,使液氦流经样品台并通过热传导冷却样品,计算漏热来反推所需要的制冷量和液氦的消耗速率.在系统集成调试后进行降温性能测试,搭建了低温材料二次电子测试系统.
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唐亮;
刘陵恩;
徐晋勇;
张宜旭;
王永峰;
张跃飞;
张泽
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摘要:
扫描电子显微镜(SEM)真空腔室内原位加热实验,当温度超过700°C以后,受到热电子的影响,导致扫描电子显微镜扫描成像质量下降,具体表现为产生条纹状的亮纹.针对这一问题,开展对扫描电子显微镜二次电子探测系统及二次电子成像的分析与研究,详细论述了高温下干扰扫描电子显微镜二次电子成像质量的影响因素,并设计出扫描电子显微镜的二次电子成像调节以及图像修复系统.该系统可分为热电子检测、扰动数据获取、图像修复等部分,采用电位检测并实时修改亮纹对应位置的亮度,可实现对被热电子干扰的图像进行主动的亮度补偿,从而实现图像修复的目的.实验结果表明,当样品温度达到1000°C后扫描电镜仍能获得清晰的二次电子图像信息.
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李晓峰;
张正君;
丛晓庆;
冯辉;
钱要红;
李娇娇
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摘要:
采用对比测量方法研究了微通道板结构参数,即开口比、板厚、电极深度、离子阻挡膜、输入增强膜对其噪声因子的影响。结果表明,开口比增大,噪声因子减小;板厚增加,噪声因子增加;输入电极深度增加,噪声因子增加;离子阻挡膜会增加噪声因子;输入增强膜会降低噪声因子。其中,离子阻挡膜对噪声因子的影响最大,板厚对噪声因子的影响最小。微通道板的结构参数不仅对噪声因子产生影响,而且对其他参数,如增益、均匀性等性能均会产生影响。要降低微通道板噪声因子,比较可行的方法是将微通道板的开口比提高到68%,在此基础上,再在微通道板的输入端制作一层高二次电子发射系数的MgO2输入增强膜,使微通道板的噪声因子接近1,从而达到理想微通道板的水平。
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曾进能;
李晓峰;
李廷涛;
常乐;
龚燕妮;
赵伟林;
赵恒;
张俊;
褚祝军;
李顺平
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摘要:
MCP是一种超快响应的电子倍增器,在像增强器和光电倍增管中有广泛应用.本文首先介绍了MCP输入增强膜原理,之后利用真空镀膜方法在MCP的输入端镀制了一层具有高二次电子发射系数的膜层,并通过面电阻、XPS表征了膜层特性.通过试验,对比测量了镀膜MCP和常规MCP像增强器的信噪比、MCP增益以及像增强器分辨力,测量结果表明,镀膜MCP像增强器的信噪比、MCP增益较常规MCP像增强器的信噪比、MCP增益均有提高,但像增强器分辨力有所下降.常规MCP像增强器的信噪比平均为25.27、MCP增益平均为209.5、像增强器分辨力平均为61 lp/mm,而镀膜MCP像增强器的信噪比平均为29.53、MCP增益平均为450.5、像增强器分辨力平均为54.75 lp/mm.镀膜MCP像增强器信噪比和MCP增益提高的原因是MCP输入端镀膜以后,表面二次电子发射系数提高.另外由于MCP输入端表面二次电子发射系数提高,导致镀膜MCP输入端表面散射电子数量的增加,使得镀膜MCP像增强器分辨力有所下降.
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金大志;
中国工程物理研究院;
石磊;
戴晶怡;
杨中海
- 《2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议》
| 2006年
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摘要:
中子发生器主要由离子源、加速系统和靶等组成.当D+离子束轰击靶时,产生中子的同时,在靶面也产生二次电子,形成二次电子流,导致电源负荷加重,靶压下降,从而影响中子产额,因此在中子发生器中需要采取各种方法抑制二次电子流.本文讨论了中子发生器中二次电子流的产生机制,并讨论了几种抑制方法.模拟计算表明,在法拉第圆筒的基础上加上电场抑制,能很好地抑制二次电子流的产生.
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Zhaoyang Ding;
丁兆洋;
张丽秀;
王俊海;
王卿源
- 《2015全国建筑材料测试技术交流会》
| 2015年
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摘要:
以S-4800冷场发射扫描电子显微镜为例,介绍了扫描电子显微镜的原理、功能以及操作的相关知识.系统讲解了扫描电子显微镜的成像原理以及扫描电子显微镜的内部结构,阐述二次电子(Secondary Electron)和背散射电子(Backscattered Electron)的信息传达方式;介绍了扫描电子显微镜的主要功能,以及其在材料分析中的应用实例.
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杨尧;
张文慧;
马鸿义;
武启;
方兴;
刘占稳;
赵红卫;
姚泽恩
- 《中国核学会2011年年会》
| 2011年
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摘要:
利用电磁离子模拟程序MAGIC对强流ECR(Electron Cyclotron Resonance)离子源引出作了模拟.模拟考虑了束离子与背景气体碰撞电离产生二次电子和慢离子,直观地给出了它们的空间分布图像.对径向空间电荷场、电流密度分布和束流发射度作了讨论.结果显示:引出区束流发射度增长迅速(约3倍),二次电子将部分中和空间电荷场,降低发射度.模拟图像还可以看出慢离子积累放电是引起负偏压打火的一个重要因素,文中对此问题做了阐述.
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宋会英;
张玉林;
魏守水;
孔祥东
- 《中国自动化学会第19届青年学术会议》
| 2004年
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摘要:
利用Monte Carlo方法,本文模拟了具有Gauss分布特征的入射低能电子束斑在多元多层介质中的散射过程,得到了低能电子束在不同曝光条件下的能量沉积分布.将二次电子作用的影响考虑在内,分析了抗蚀剂的曝光过程并对抗蚀剂的曝光范围进行了修正.
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