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Special photochemical reaction furnace for rapid thermal annealing of Si thin film

机译：特殊的光化学反应炉，用于硅薄膜的快速热退火

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公开/公告号KR900005550A

专利类型
公开/公告日1990-04-14

原文格式PDF
申请/专利权人 경상현;
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申请/专利号KR19880011867
发明设计人 김호영;김윤태;유형준;
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申请日1988-09-14
分类号H01L21/00;
国家 KR
入库时间 2022-08-22 06:12:39

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