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InGaN/A1GaN/GaN Multilayer Buffer for Growth of GaN on Sapphire

机译:用于在蓝宝石上生长GaN的InGaN / AlGaN / GaN多层缓冲液

摘要

A GaN based three layer buffer on a sapphire substrate provides a template for growth of a high quality I GaN layer as a substitute substrate for growth of a Nitride based LED.
机译:蓝宝石衬底上的基于GaN的三层缓冲层提供了用于生长高质量I GaN层的模板,作为氮化物基LED的生长的替代衬底。

著录项

  • 公开/公告号US2002175337A1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-11-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AXT INC.;

    申请/专利号US20020191886

  • 发明设计人 JAMES DONG;HENG LIU;CHANGHUA CHEN;

    申请日2002-07-08

  • 分类号H01L33/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:09:27

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