要解决的问题:提供光学活性物质的绝对构型确定剂,其可以通过使用痕量样品简单地确定光学活性物质的绝对构型,制造该试剂的方法和试剂确定光学活性物质绝对构型的方法。
解决方案:提供光学活性物质的绝对构型确定剂,其光学纯度至少为20%。该试剂由通式[1]所示的1-烷氧基双环[3.3.0] -2-氧杂辛烷,通式[2]所示的1-羟基双环[3.3.0] -2-氧杂辛烷或双环组成。 [3.3.0] -2-氧杂-1-辛烯,如通式[3]所示。提供了光学活性物质的绝对构型确定方法。在该方法中,使光学活性物质与由通式[1]-[3]之一表示的化合物反应,并且通过测量获得的非对映异构体的核磁共振谱来确定光学活性物质的绝对构型。另外,提供了由通式[1]〜[3]表示的化合物构成的绝对构型决定剂的制造方法。
版权:(C)2004,日本特许厅
公开/公告号JP2004085279A
专利类型
公开/公告日2004-03-18
原文格式PDF
申请/专利号JP20020244394
申请日2002-08-23
分类号G01R33/28;C07D307/935;G01N24/10;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 23:34:33