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Standard cell e.g. gate, arrangement fabricating method for dynamic RAM semiconductor chip, involves automatically calculating new desired cell density when actual cell density exceeds maximum cell density, and finding new cell arrangement

机译:标准单元格用于动态RAM半导体芯片的门的布置制造方法,涉及当实际单元密度超过最大单元密度时自动计算新的所需单元密度,并寻找新的单元布置

摘要

The method involves making an automatic provisional standard cell arrangement using standard cells within a range, and determining the actual cell density of arrangement using a computing unit. A new desired cell density is automatically calculated using another unit, based on a given condition for the cell density when the actual cell density exceeds a maximum cell density. A new standard cell arrangement is found within the range. An independent claim is also included for an apparatus for executing a method of fabricating a standard cell arrangement of a dynamic RAM (DRAM) semiconductor chip.
机译:该方法包括使用一定范围内的标准单元进行自动临时标准单元布置,以及使用计算单元确定布置的实际单元密度。当实际细胞密度超过最大细胞密度时,根据细胞密度的给定条件,使用另一个单位自动计算新的所需细胞密度。在该范围内找到了新的标准单元布置。还包括用于执行制造动态RAM(DRAM)半导体芯片的标准单元布置的方法的设备的独立权利要求。

著录项

  • 公开/公告号DE102004014894A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-11-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号DE20041014894

  • 发明设计人 SELZ MANFRED;

    申请日2004-03-23

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 22:00:48

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