要解决的问题:通过光刻工艺制造具有减少绘制时间的四级光掩模。
解决方案:四级光掩模具有遮光部分13,透射部分14和透光率不同的第一半透射部分15A和第二半透射部分15B,并形成具有膜厚在转印物体上逐步或连续变化。第一半透射部15A通过在半透明基板16的表面上设置半透明的第一半透射膜17A而构成,第二半透射部15B通过设置半透明的第二半透射膜而构成。如图17B所示,在半透明基板16的表面上,第二半透射部15B的来自第一半透射部15A的曝光光的透射率不同。遮光部13通过在透明基板16的表面上层叠第一半透明膜17A,遮光膜18和第二半透明膜17B而构成。
版权:(C)2010,JPO&INPIT
公开/公告号JP2010198042A
专利类型
公开/公告日2010-09-09
原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA CORP;
申请/专利号JP20100134739
发明设计人 SANO MICHIAKI;
申请日2010-06-14
分类号G03F1/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:03:44