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Using standard pattern tiles and custom pattern tiles to generate a semiconductor design layout having a deep well structure for routing body-bias voltage

机译:使用标准图案图块和自定义图案图块来生成具有深阱结构的半导体设计布局,以路由体偏置电压

摘要

A semiconductor design layout having a deep well structure for routing body-bias voltage is generated using standard pattern tiles and custom pattern tiles. These tiles have a tile shape and a tile size that fit an integer number of times into a grid unit of a grid for the semiconductor design layout.
机译:使用标准图案块和定制图案块来生成具有用于引导体偏置电压的深阱结构的半导体设计布局。这些瓦片具有瓦片形状和瓦片大小,其适合于半导体设计布局的网格的网格单元的整数倍。

著录项

  • 公开/公告号US7797655B1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MICHAEL PELHAM;

    申请/专利号US20070999279

  • 发明设计人 MICHAEL PELHAM;

    申请日2007-12-04

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:51:14

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