机译:用于控制例如处理室中的气体流量的方法半导体工业中的表面处理涉及基于分子,原子,自由基和离子的浓度测量来主动地就地控制质量流量控制器
公开/公告号DE102008036050A1
专利类型
公开/公告日2010-02-04
原文格式PDF
申请/专利权人 NEOPLAS CONTROL GMBH;
申请/专利号DE20081036050
发明设计人 SCHLOTT DIETER;WEGE STEPHAN;WELTMANN KLAUS-DIETER;ROEPCKE JUERGEN;MACHERIUS UWE;LANG NORBERT;ZIMMERMANN HENRIK;
申请日2008-08-01
分类号G05D7/06;G01F1/56;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 18:28:52