机译:电光显示装置用基板的制造方法所具备的用于研磨由铜或铜合金构成的配线层的化学机械研磨用水分散液以及该化学机械研磨用水分散液的化学机械研磨方法
要解决的问题:提供一种用于化学机械抛光的水分散元件,其对铜等金属膜,钽等阻挡金属膜和绝缘膜具有优异的抛光性能,并且可以通过简单的步骤重复使用;一种用于化学机械抛光的水分散元件的制造方法;以及化学机械抛光方法。
解决方案:用于化学机械抛光的水分散元件用于抛光布置在电光显示基板上的由铜或铜合金构成的布线层,其中包含(A)磨粒; (B)有机酸; (C)铜离子。磨粒(A)的长径Rmax与短径Rmin的比即Rmax / Rmin为1.0〜1.5。成分(C)为5.010 版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT