机译:表面处理过的铜箔,具有非常薄的底漆树脂层的表面处理过的铜箔,制造表面处理过的铜箔的方法以及用非常薄的原始树脂层制造的表面处理过的铜箔的方法
公开/公告号EP2100987B1
专利类型
公开/公告日2015-01-28
原文格式PDF
申请/专利权人 MITSUI MINING & SMELTING CO;
申请/专利号EP20070830832
申请日2007-10-30
分类号C23C28/00;B32B15/08;C25D5/10;C25D7/06;H05K1/09;
国家 EP
入库时间 2022-08-21 15:08:41