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Method of manufacturing photomask using the same computer readable media including a sequence of programmed instructions stored thereon for implementing the same and mask imaging system

机译:使用相同的计算机可读介质制造光掩模的方法,该方法包括存储在其上的用于实现该掩模和掩模成像系统的一系列编程指令

摘要

this invention is to prevent the flow of the pattern, the photo mask can be formed by the method. this is the part of the photo mask caused by the method are provided, the design pattern of the design pattern in the use of the pattern in the pattern formation of the stage; the relationship is difficult to calculate the output power; and the standard, the the model of the evaluation of whether the includes.
机译:本发明是为了防止图案的流动,可以通过该方法形成光掩模。这是提供由该方法引起的光掩模的一部分,该设计图案在使用该设计图案的阶段中形成该图案的阶段;该关系难以计算输出功率;和标准,是否包括在内的评估模型。

著录项

  • 公开/公告号KR101866448B1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-06-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 삼성전자주식회사;

    申请/专利号KR20110011926

  • 发明设计人 최성운;이미경;

    申请日2011-02-10

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 12:37:42

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