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PATTERNING MATERIAL, PATTERNING METHOD AND PATTERNING DEVICE

机译:加样材料,加样方法和加样装置

摘要

Provided is a patterning material for three-dimensional stereolithography, with which it is possible to improve the curing speed and suppress a shrinkage of the three-dimensionally shaped article. The patterning material for three-dimensional stereolithography contains a diallyl phthalate prepolymer, a photocurable monomer and a photopolymerization initiator, and is liquid at room temperature. The patterning material is suitable for use in patterning performed by surface exposure. The proportion of the diallyl phthalate prepolymer is, for example, 5 to 40 mass% in the total amount of the diallyl phthalate prepolymer and the photocurable monomer.
机译:提供一种用于三维立体光刻的图案形成材料,通过该图案形成材料,可以提高固化速度并抑制三维形状的制品的收缩。用于三维立体光刻的图案材料包含邻苯二甲酸二烯丙基酯预聚物,光固化单体和光聚合引发剂,并且在室温下为液体。图案形成材料适用于通过表面曝光进行的图案形成。邻苯二甲酸二烯丙基酯预聚物和光固化性单体的总量的比例例如为5〜40质量%。

著录项

  • 公开/公告号EP3342789A4

    专利类型

  • 公开/公告日2019-06-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NAGASE CHEMTEX CORPORATION;

    申请/专利号EP20160838778

  • 发明设计人 WATANABE KOJI;

    申请日2016-08-09

  • 分类号C08F2/44;B29C67;B33Y10;B33Y30;B33Y70;G03F7;C08F263/08;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 12:29:09

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