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VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION MASK SET, VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK SET MANUFACTURING METHOD, AND DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD

机译:汽相沉积掩模,汽相沉积掩模组,汽相沉积掩模组制造方法,汽相沉积掩模组制造方法和显示装置制造方法

摘要

In the present invention, among a plurality of TEG holes formed on a mask sheet (15) of a vapor deposition mask (10), some of the TEG holes overlap with an opening (13a) formed on a housing sheet (13), whereas the remaining TEG holes are shielded by the housing sheet (13).
机译:在本发明中,在蒸镀掩模(10)的掩模片(15)上形成的多个TEG孔中,一些TEG孔与在壳体片(13)上形成的开口(13a)重叠。其余的TEG孔被外壳(13)遮盖。

著录项

  • 公开/公告号WO2019186629A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-10-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHARP KABUSHIKI KAISHA;

    申请/专利号WO2018JP12062

  • 发明设计人 NAKAMURA KENTA;

    申请日2018-03-26

  • 分类号C23C14/24;C23C14/04;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 11:53:01

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