首页> 外国专利> VAPOR-DEPOSITION MASK DEFECTIVE DETERMINATION METHOD, VAPOR-DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK DEVICE MANUFACTURING METHOD, VAPOR-DEPOSITION MASK SELECTION METHOD, AND VAPOR-DEPOSITION MASK

VAPOR-DEPOSITION MASK DEFECTIVE DETERMINATION METHOD, VAPOR-DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK DEVICE MANUFACTURING METHOD, VAPOR-DEPOSITION MASK SELECTION METHOD, AND VAPOR-DEPOSITION MASK

机译:汽相沉积掩模确定方法,汽相沉积掩模制造方法,汽相沉积掩模器件制造方法,汽相沉积掩模选择方法和汽相沉积掩模

摘要

This vapor-deposition mask defective determination method comprises: a measuring step for measuring the dimensions X1 from a point P1 to a point Q1, and the dimensions X2 from a point P2 to a point Q2; and a determination step for determining whether a vapor-deposition mask is defective on the basis of the dimensions X1 and the dimensions X2 measured in the measurement step.
机译:该气相沉积掩模缺陷确定方法包括:测量步骤,用于测量从点P1到点Q1的尺寸X1和从点P2到点Q2的尺寸X2。确定步骤用于基于在测量步骤中测量的尺寸X1和尺寸X2确定汽相沉积掩模是否有缺陷。

著录项

  • 公开/公告号WO2020012862A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DAI NIPPON PRINTING CO. LTD.;

    申请/专利号WO2019JP23374

  • 发明设计人 IKENAGA CHIKAO;

    申请日2019-06-12

  • 分类号C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 11:13:51

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号