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High-density triple diamond stripline interconnects

机译:高密度三菱形带状线互连

摘要

In accordance with embodiments disclosed herein, there is provided a high density triple diamond stripline interconnect. An interconnect includes a first reference layer, a second reference layer disposed below the first reference layer, and a dielectric disposed between the first reference layer and the second reference layer. The interconnect further includes a first pair of conductors including a first conductor and a second conductor that are in a broadside-facing orientation within the dielectric below the first reference layer and above the second reference layer. The interconnect further includes a second pair of conductors including a third conductor and a fourth conductor that are in an edge-facing orientation within the dielectric below the first conductor and above the second conductor.
机译:根据本文公开的实施例,提供了高密度三菱形带状线互连。互连件包括第一参考层,设置在第一参考层下方的第二参考层以及设置在第一参考层和第二参考层之间的电介质。所述互连还包括第一对导体,所述第一对导体包括第一导体和第二导体,所述第一导体和第二导体在电介质内在第一参考层下方和第二参考层上方处于宽面定向。所述互连还包括第二对导体,所述第二对导体包括第三导体和第四导体,所述第二导体在第一导体下方和第二导体上方的电介质内处于面向边缘的取向。

著录项

  • 公开/公告号US10607952B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-03-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTEL CORPORATION;

    申请/专利号US201816116483

  • 发明设计人 ALBERT SUTONO;

    申请日2018-08-29

  • 分类号H01L23/528;H01L23/66;H01L23/538;H01L25/065;H01P3/08;H01L23;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:27:54

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