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PROCEDURES FOR STRICT AND STRICT

摘要

Es wird ein Gestrick-Strickverfahren vorgesehen, mit dem eine Schrumpfungsgröße in einer Strickbreitenrichtung eines plattierartigen Gestrickteils angepasst werden kann. In dem Gestrick-Strickverfahren für das Stricken eines plattierartigen Gestricks 3, in dem zweite Reihen 2 auf der Rückseite von ersten Reihen 1 angeordnet sind, wird wenigstens ein Teil des plattierartigen Gestrickteils 3 durch ein erstes Stricken gebildet. Das erste Stricken umfasst einen Schritt A, einen Schritt B und einen Schritt C. Wenn in dem Schritt A die erste Reihe 1 gestrickt wird, wird ein Teilungsstricken an einer ersten Basismasche 41 einer bestehenden Reihe 4 durchgeführt und wird eine erste Hauptmasche 11, die von der ersten Basismasche 41 gezogen wird, gestrickt. Wenn in dem Schritt B die zweite Reihe 2 gestrickt wird, wird eine erste Nebenmasche 21, die an die erste Basismasche 41 in der Maschenstäbchenrichtung anschließt, gestrickt und in einer zu der Richtung, in der die erste Hauptmasche 11 gezogen wird, entgegengesetzten Richtung gezogen. In dem Schritt C werden die erste Hauptmasche 11 und die erste Nebenmasche 21 übereinander gelegt.

著录项

  • 公开/公告号DE102019216683A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020.05.28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHIMA SEIKI MFG., LTD.;

    申请/专利号DE102019216683

  • 发明设计人 Kazuyoshi Okamoto;Yoshiyuki Yamada;

    申请日2019.10.29

  • 分类号

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 10:52:15

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