光学元件、光学膜平面化方法及光学元件的制造方法

摘要

本发明之一是一种光学膜平面化方法，为了缓和反射多层膜(12)的应力，在透明基板(10)的被成膜面(10S)和被磨面(10R)使面粗度具有差别，在被成膜面(10S)上形成反射多层膜(12)，被磨面(10R)毛面化后形成毛面(13)。由于反射多层膜(12)具有膜应力，因此向被成膜面(10)方向凸出的歪曲产生，并且通过形成毛面(13)，基于泰曼效应的应力起作用而向毛面(13)方向凸出的歪曲产生。膜应力和由毛面形成所引起的应力，由于向互相相反的方向弯曲，因此，使应力互相抵消，而使反射多层膜(12)平面化。从而，本发明的目的在于，在光学膜形成于薄型基板时，没有形成特别的修正用薄膜，通过对基于光学膜的膜应力进行缓和，来谋求光学膜的平面化。