对光刻衬底上的正色调抗蚀剂层进行构图的方法

摘要

提供一种单曝光方法和双曝光方法，以减少掩模误差因子并提高光刻印刷步骤分辨率。本发明包括使用正色调抗蚀剂，将具有稠密线和间隙的需要图案分解为印刷在交错位置的半稠密间隙的两个子图案。每次曝光都在对两个半稠密间隙的相应掩模图案施加相对间隙宽度扩展之后执行。表示间隙宽度扩展的因子具有1到3之间的值，从而减少掩模误差因子和线边粗糙。