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金属氧化物半导体场效应晶体管有源区和边缘终止区电荷平衡

摘要

公开了一种制造具有有源区和边缘终止区的MOSFET的方法。本方法包括在位于有源区和边缘终止区中的沟槽的底部形成第一多个注入物。在位于有源区的沟槽的底部形成第二多个注入物。在位于有源区的沟槽底部形成第二多个注入物,使得在位于有源区的沟槽的底部形成的注入物达到预定的浓度。这样,有源区和边缘终止区的击穿电压可以变得相似,并因此得到优化,同时还能维持有利的RDson。

著录项

  • 公开/公告号CN101809726B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 维西埃-硅化物公司;

    申请/专利号CN200880109079.4

  • 发明设计人 陈曲飞;凯尔·特里尔;沙伦·石;

    申请日2008-10-02

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陈晓帆

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-01-04

    授权

    授权

  • 2010-10-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/336 申请日:20081002

    实质审查的生效

  • 2010-08-18

    公开

    公开

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