法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-03-12
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G05B 13/04 授权公告日:20111221 终止日期:20130117 申请日:20080117
专利权的终止
2011-12-21
授权
授权
2010-12-29
专利申请权的转移 IPC(主分类):G05B 13/04 变更前: 变更后:
专利申请权、专利权的转移
2008-09-24
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-07-30
公开
公开
机译: 在采用浅沟槽隔离的集成电路制造工艺中形成用于对准的零层标记的方法
机译: 通过匹配程序确定要应用于集成电路制造工艺的剂量校正的方法
机译: 通过对准程序确定应用于集成电路制造工艺的剂量校正的方法