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聚合物薄膜纳米掺杂扬尘装置及其掺杂方法

摘要

一种聚合物制备技术领域的基于化学气相沉积的聚合物薄膜纳米掺杂装置及其掺杂方法,其装置包括:底座、支撑架、顶架以及旋转离心腔,通过将掺杂扬尘装置固定安装于化学气相沉积设备沉积腔内并装填好待掺杂粉体后,将基底放置于沉积旋转台上并密封化学气相沉积密封腔抽真空后开启沉积,待聚合物气体充满沉积腔后启动掺杂扬尘装置,将纳米粉体连续弥散于真空腔内和聚合物蒸汽混合后自然下落沉积于基底材料表面,形成掺杂聚合物薄膜。本发明在原有化学气相沉积原料的前提下将一种或者多种具有特定性能纳米粉体材料与该种聚合物气体混合后在目标基底上沉积获而获得具有多种功能特性的掺杂薄膜。

著录项

  • 公开/公告号CN101921993B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海交通大学;

    申请/专利号CN201010270589.9

  • 申请日2010-09-02

  • 分类号

  • 代理机构上海交达专利事务所;

  • 代理人王锡麟

  • 地址 200240 上海市闵行区东川路800号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-10-19

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/00 授权公告日:20110928 终止日期:20150902 申请日:20100902

    专利权的终止

  • 2011-09-28

    授权

    授权

  • 2011-02-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/00 申请日:20100902

    实质审查的生效

  • 2010-12-22

    公开

    公开

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