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用于产生特别是EUV辐射和/或软X射线辐射的方法和设备

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描述了一种用于产生由等离子体(26)发射的特别是EUV辐射(12)和/或软X射线辐射(12a)的方法。等离子体(26)是由放电空间(14)中的工作气体(22)形成的，所述放电空间(14)包括至少一个辐射发射窗口(16)和具有至少一个阳极(18)和至少一个阴极(20)的电极系统。该电极系统借助于被引入到放电空间(14)中的电荷载体(24)而将电能传输给等离子体(26)。为了得到以高重复频率可靠地点燃等离子体(26)，建议将由至少一个辐射源(28)产生的辐射(30)引入到放电空间(14)中以便使得可获得放电载荷(24)。

著录项

公开/公告号CN101390453B

专利类型发明专利
公开/公告日2011-08-03

原文格式PDF
申请/专利权人皇家飞利浦电子股份有限公司;
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申请/专利号CN200480037540.1
发明设计人 G·H·德拉;R·T·A·阿佩茨;W·内夫;O·罗西尔;P·青克;
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申请日2004-12-13
分类号H05G2/00(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人程天正;陈景峻
地址荷兰艾恩德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:07:17

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-08-27

专利权的转移 IPC(主分类):H05G 2/00 登记生效日:20190808 变更前: 变更后: 申请日:20041213

专利申请权、专利权的转移
2019-08-27

专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H05G 2/00 变更前: 变更后: 申请日:20041213

专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2011-08-03

授权

授权
2011-08-03

授权

授权
2009-05-13

实质审查的生效

实质审查的生效
2009-05-13

实质审查的生效

实质审查的生效
2009-03-18

公开

公开
2009-03-18

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专利
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外文文献

1. 用于产生特别是EUV辐射和/或软X射线辐射的方法和设备 [P] . 中国专利： CN101390453B . 2011.08.03
2. 保护用于产生EUV辐射和/或软X射线的辐射源对抗短路的方法 [P] . 中国专利： CN101199240A . 2008-06-11
3. Device for generating extreme UV (EUV) radiation/soft X-ray radiation, has electron beam source that is arranged in such a manner so that electron beam is stroked to discharge plasma to generate portion of EUV and/or X-ray radiation [P] . 德国专利： DE102013001940A1 . 2014-08-07

机译：用于产生极端UV（EUV）辐射/软X射线辐射的设备具有电子束源，该电子束源的布置方式使电子束被激发以释放等离子体，从而产生EUV和/或X射线辐射的一部分
4. In particular, the method and apparatus for generating EUV radiation and / or soft X-ray radiation [P] . 日本专利： JP5183928B2 . 2013-04-17

机译：特别地，用于产生EUV辐射和/或软X射线辐射的方法和设备
5. Method and apparatus for generating a soft X-ray radiation and EUV radiation and / or especially [P] . 日本专利： JP2007525799A . 2007-09-06

机译：产生软X射线辐射和EUV辐射和/或尤其是产生X射线辐射的方法和装置