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使用非晶氧化物膜作为沟道层的场效应晶体管、使用非晶氧化物膜作为沟道层的场效应晶体管的制造方法、以及非晶氧化物膜的制造方法

摘要

包含氢(或氘)的非晶氧化物被应用到晶体管的沟道层。因此,可以实现具有优秀的TFT特性的薄膜晶体管,所述优秀的TFT特性包括小的迟滞现象、常断操作、高导通/关断比、高饱和电流等等。此外,作为一种用于制造由非晶氧化物制成的沟道层的方法,在包含氢气和氧气的气体环境中执行成膜,以便可以控制非晶氧化物的载流子浓度。

著录项

  • 公开/公告号CN101258607B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-01-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 佳能株式会社;

    申请/专利号CN200680032534.6

  • 发明设计人 岩崎达哉;

    申请日2006-09-05

  • 分类号H01L29/786(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人魏小薇

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-01-05

    授权

    授权

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-09-03

    公开

    公开

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