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公开/公告号CN101258607B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-01-05
原文格式PDF
申请/专利权人 佳能株式会社;
申请/专利号CN200680032534.6
发明设计人 岩崎达哉;
申请日2006-09-05
分类号H01L29/786(20060101);
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人魏小薇
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 09:05:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-01-05
授权
2008-10-29
实质审查的生效
2008-09-03
公开
机译: 以非晶氧化物膜为沟道层的场效应晶体管,以非晶氧化物膜为沟道层的场效应晶体管的制造方法
机译:使用碳纳米膜势垒层的非晶铟锌氧化物薄膜晶体管的无损背沟道湿蚀刻工艺
机译:使用经济高效的最小制造工艺研究圆形绝缘体上硅膜上制造的p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的压阻效应
机译:从富含铝的非晶氧化物层到保护性氧化铝膜的过渡行为
机译:使用InAlP氧化物作为RF应用的栅极介电质的准非晶In0.22Ga0.78As沟道MOSFET。
机译:使用溶液法低温制造用于非晶铟-镓-氧化锌薄膜晶体管的HfO2钝化层
机译:具有薄硅覆盖层的伪非晶Si / SiGe / Si p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中的有效迁移率
机译:超柔性,不可见的薄膜晶体管,由非晶金属氧化物/聚合物沟道层混合物制成。