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双压电晶片元件、双压电晶片开关、密勒元件及其制造方法

摘要

一种双压电晶片元件,具备:氧化硅层;高膨胀率层,其形成在氧化硅层上且具有较此氧化硅层的热膨胀率还高的热膨胀率;以及变形防止层,其覆盖氧化硅层的表面,以防止氧化硅层由于经常变化所形成的变形。变形防止层相对于水份和氧的透过率亦可较氧化硅层还低,变形防止层亦可以是一种以较形成氧化硅层时还高的能量来进行成膜时所形成的氧化硅,变形防止层亦可为氮化硅层或金属层。

著录项

  • 公开/公告号CN101027741B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-11-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱德万测试株式会社;

    申请/专利号CN200580029357.1

  • 发明设计人 高柳史一;三瓶广和;

    申请日2005-08-31

  • 分类号

  • 代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人寿宁

  • 地址 日本东京练马区旭町1丁目32番1号

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-10-30

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01H 61/01 授权公告日:20101117 终止日期:20120831 申请日:20050831

    专利权的终止

  • 2010-11-17

    授权

    授权

  • 2007-10-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-29

    公开

    公开

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