法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01S 3/109 授权公告日:20100825 终止日期:20140722 申请日:20090722
专利权的终止
2010-08-25
授权
授权
2010-02-24
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-12-30
公开
公开
机译: 产生激光束高次谐波的装置,使用相同光束的曝光装置,产生激光束高次谐波的方法,使用相同光束的曝光方法以及使用相同光束的器件制造方法
机译: 高次谐波对策装置,具有高次谐波对策装置的制冷循环装置及电流检测器的连接状态的检测方法
机译: 产生高次谐波X射线和使用高次谐波X射线的点衍射X射线干涉仪的装置和方法