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等离子体生成装置中的微滴除去装置和微滴除去方法

摘要

能可靠地分离从电弧放电部行进的等离子体与微滴,能可靠地除去微滴。提供可防止微滴到达被处理物的等离子体生成装置中的微滴除去装置。形成等离子体(P)与微滴(D)在混合状态下行进的筒状行进路(3),在筒状行进路(3)内设置了1个以上的在偏心位置上具有通过孔(6a)的孔窗(6),在筒状行进路(3)的外周配置了用于使等离子体(P)通过孔窗(6)的偏心通过孔(6a)的磁场发生单元,利用基于该磁场发生单元的磁场,使等离子体(P)在筒状行进路(3)内弯曲地通过孔窗(6)的偏心通过孔(6a),在弯曲时使微滴(D)与孔窗(6)的壁面碰撞而将其除去。

著录项

  • 公开/公告号CN101146926B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-07-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本磁性技术株式会社;

    申请/专利号CN200680009356.5

  • 发明设计人 椎名祐一;

    申请日2006-03-24

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王永刚

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-07-21

    授权

    授权

  • 2008-05-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-03-19

    公开

    公开

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