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用于大规模电感耦合等离子体源的紧凑、分布式感应元件

摘要

一种感应耦合等离子体源,设置有紧凑的感应元件(20),感应元件(20)被构造成产生特别适合于加工大规模晶片(14)的空间分布的等离子体(15)。一种优选实施方式的元件(20)由片材形成,以实现紧凑并易于构造。元件(20)位于加工室(12)的电介质壁或窗口(16)之外,与电介质壁或窗口大致一致,由一个或多个层或回路(40)形成。导体提供围绕每个回路的传导路径,每个回路具有使绕每个回路的路径大于元件(20)的圆周的蜿蜒或振荡构造。该路径是通过沿元件的侧边缘的切口(30)来形成的。导体由大和小宽高比的交替部分(31-35)形成,其中宽高比被定义为横跨路径的宽度与片的厚度的比。这些部分也由片中的切口限定。较窄的部分集中电流,具有较高感应系数,将较大量的能量耦合到室中,使得产生离散的等离子体浓度环。可以通过构造感应元件的一个或多个回路使得较高感应系数、较低宽高比的部分位于离室的轴的合适半径处来产生一个或多个环。

著录项

  • 公开/公告号CN1906729B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-05-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN200580001611.7

  • 发明设计人 乔则夫·布卡;

    申请日2005-01-18

  • 分类号

  • 代理机构北京东方亿思知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王怡

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-08

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 37/32 授权公告日:20100512 终止日期:20160118 申请日:20050118

    专利权的终止

  • 2010-05-12

    授权

    授权

  • 2007-03-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-01-31

    公开

    公开

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