具有高填料含量的稳定的通过阳离子途径可交联/可聚合的牙科组合物

摘要

本发明涉及高度填充的阳离子牙科组合物，该组合物包含：至少一种通过阳离子途径反应性的化合物(A)；至少一种牙科用填料(B)；任选地，至少一种分散剂(C)，其包含至少一种有机聚合物或共聚物；至少一种阳离子光引发剂；和任选地，至少一种光敏剂(E)，所述组合物的特征在于至少一种牙科用填料(B)经用下列物质处理：至少一种有机硅偶联剂(F)和至少一种化合物(G)，所述有机硅偶联剂(F)包含至少一个直接连在硅原子上的活性官能团(rfA)，其在活化后与牙科用填料形成化学键，该偶联剂还包含至少一个不直接连在硅原子上的活性官能团(rfB)，其在活化后与化合物(G)的活性官能团(rfC)形成化学键。