首页> 中国专利> 回归反射片及回归反射片的制造方法

回归反射片及回归反射片的制造方法

摘要

本发明提供一种回归反射片(100)和该回归反射片(100)的制造方法,该回归反射片(100)具有:回归反射层(20),其在一个表面具有多个回归反射元件(24);背面层(40),其与回归反射元件(24)相对地设置,并且其回归反射元件(24)侧的表面的至少一部分由树脂构成;多个颗粒(30),其配置于回归反射元件(24)与背面层(40)之间,并且其表面的至少一部分由树脂构成;和空隙,其形成于回归反射元件(24)与背面层(40)之间。

著录项

  • 公开/公告号CN111194418B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本电石工业株式会社;

    申请/专利号CN201880065812.0

  • 发明设计人 盐见敏明;蒋晨阳;

    申请日2018-10-04

  • 分类号G02B5/124;B32B3/24;B32B7/023;B32B37/10;

  • 代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳;尹明花

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-09-06 00:36:03

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号