用于在真空腔室中传送基板载体的设备、用于真空处理基板的系统、及用于在真空腔室中传送基板载体的方法

摘要

提供一种用于在真空腔室(102)中传送基板载体(10)的设备(100)。设备(100)包括：第一轨道(110)，提供基板载体(10)的第一传送路径(T1)；以及传送装置(200)，被配置为用于从第一轨道(110)上的第一位置无接触地移动基板载体(10)至远离第一轨道(100)的一或多个第二位置。所述一或多个第二位置包括在第二轨道(120)上的位置和用于处理基板(2)的处理位置中的至少一者。传送装置(200)包括至少一个第一磁体装置(210)，至少一个第一磁体装置(210)被配置为提供作用于基板载体(10)上的磁力(F)，以从第一位置无接触地移动基板载体(10)至一或多个第二位置。