大面积微压印专用超平整度软模具的制作方法

摘要

本发明公开了一种大面积微压印专用超平整度软模具的制作方法，该方法采用光刻和其配套的刻蚀工艺在石英基板的表面上制作多层套印所需的金属对准标记和微结构图型，其中金属的套印对准标记与待转移的模具胶层表面微结构图型不处于同一平面；本发明制备的大面积微压印专用超平整度软模具包括石英基板、石英基板表面的金属套刻对准标记、石英基板表面的助粘剂、超平整度的模具工作胶层、模具工作胶层表面的微结构图型。用于进行分区步进式的UV固化压印光刻，并可利用石英基板上高明暗对比度的对准标记来实现多层套印，制作出复杂结构的各种微纳米器件。