公开/公告号CN107533286B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-08
原文格式PDF
申请/专利权人 3M创新有限公司;
申请/专利号CN201680024037.5
发明设计人 约翰·T·斯特兰德;戴维·B·奥尔森;
申请日2016-04-25
分类号G03F7/00(20060101);C09D4/00(20060101);G03F7/027(20060101);
代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人王潜;郭国清
地址 美国明尼苏达州
入库时间 2022-08-23 13:05:26
机译: 溶胀性成膜组合物及其纳米压印光刻方法
机译: 溶胀性成膜组合物及其纳米压印光刻方法
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法