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溶胀性成膜组合物及采用所述溶胀性成膜组合物进行纳米压印光刻的方法

摘要

本发明涉及能够经浇注和固化以在基底上形成微复制图案并且还能够在接触水时溶胀以便从所述基底剥离的物质组合物。本发明还公开了由这些组合物形成的水溶胀性丙烯酸类聚合物以及在纳米压印光刻中使用所述组合物的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN107533286B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 3M创新有限公司;

    申请/专利号CN201680024037.5

  • 申请日2016-04-25

  • 分类号G03F7/00(20060101);C09D4/00(20060101);G03F7/027(20060101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王潜;郭国清

  • 地址 美国明尼苏达州

  • 入库时间 2022-08-23 13:05:26

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