公开/公告号CN111286719B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-08
原文格式PDF
申请/专利权人 应用材料公司;
申请/专利号CN202010101748.6
申请日2015-04-29
分类号C23C16/44(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/505(20060101);H01L21/205(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人汪骏飞;侯颖媖
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 13:04:59
机译: 调节远程等离子体源以提高性能,具有可重复的蚀刻和沉积速率
机译: 具有可重复蚀刻和沉积速率的远程等离子体源,可提高性能
机译: 具有可重复蚀刻和沉积速率的远程等离子体源,可提高性能