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面源黑体用涂料与面源黑体及其制备方法

摘要

本申请涉及黑体材料领域,公开一种面源黑体用涂料与面源黑体及其制备方法。该面源黑体用涂料,包括无机粉料,其中,以无机粉料的总重的重量百分比计包括以下原料:MgO 1%‑15%、Cr2O3 35%‑55%、MnO2 0.5%‑8%、NiO 0.5%‑8%、SiC 1%‑20%和TiO2 1%‑15%。利用该涂料制备的面源黑体,其发射率可达到0.98以上。

著录项

  • 公开/公告号CN111995888B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大华技术股份有限公司;

    申请/专利号CN202010872080.5

  • 发明设计人 郑东辉;陈洁;陈鸿武;

    申请日2020-08-26

  • 分类号C09D1/00(20060101);C09D7/61(20180101);G21G4/00(20060101);

  • 代理机构11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘亚威

  • 地址 310053 浙江省杭州市滨江区滨安路1187号

  • 入库时间 2022-08-23 12:57:12

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