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二醇基的保护方法、二醇基的保护剂及脱保护方法

摘要

本发明的课题在于提供一种在桫拉希醇的制造中有用的新型化合物及它们的制造方法、桫拉希醇的制造方法、二醇基的保护方法及脱保护方法、以及二醇基的保护剂。以通式(1)表示的化合物是在桫拉希醇的制造中有用的化合物。式中,R1a及R1b为氢原子或羧基保护基;R2为羟基等,R3为羟基等。

著录项

  • 公开/公告号CN110003161B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士胶片株式会社;

    申请/专利号CN201910288985.5

  • 申请日2015-03-19

  • 分类号C07D317/30(20060101);C07D333/32(20060101);C07D319/06(20060101);C07D333/46(20060101);C07D409/06(20060101);C07D493/04(20060101);C07D497/04(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人周欣

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 12:54:15

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