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一种抗还原BaTiO3基介质陶瓷及制备方法

摘要

本发明涉及一种抗还原BaTiO3基介质陶瓷及制备方法。该介质陶瓷的化学式为(1‑x)BaTiO3‑xBi(Zn1/2Y1/2)O2.75,其中x=0.05~0.25,包括了以下步骤:(1)以BaTiO3、Bi2O3、ZnO、Y2O3为原料,依化学式中金属原子的化学计量比配比原料;(2)将原料球磨混合均匀,烘干,在马弗炉中预烧得到陶瓷粉体;(3)将预烧得到的陶瓷粉体经过二次球磨,烘干后造粒压制成陶瓷生坯;(4)将陶瓷生坯排胶后,在管式炉中通入还原性气体烧结,得到抗还原BaTiO3基介质陶瓷。该介质陶瓷在还原气氛下烧结,具有绝缘性能和介电性能优异、生产成本低、且在宽温范围内介电性能稳定等特点,尤其在x=0.15时,具有绝缘电阻率高达5.5×1012Ω·cm,介电温度稳定性满足X8R标准。

著录项

  • 公开/公告号CN110304916B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉理工大学;

    申请/专利号CN201910341120.0

  • 申请日2019-04-25

  • 分类号C04B35/468(20060101);C04B35/622(20060101);

  • 代理机构42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司;

  • 代理人张秋燕

  • 地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号

  • 入库时间 2022-08-23 12:54:12

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