公开/公告号CN110832399B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-28
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201880044201.8
申请日2018-06-08
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王益
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 12:33:03
机译: 用于减少衬底支撑件上的氧化或去除氧化物的系统,光刻设备和方法
机译: 系统,光刻设备以及减少衬底支撑件上的氧化或去除氧化物的方法
机译: 系统,光刻设备和用于在基板支撑件上减少氧化或去除氧化物的方法