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基于伪MOS的InGaAs几何因子表征方法及系统

摘要

本发明提供一种基于伪MOSFET的InGaAs晶圆几何因子表征方法及表征系统,表征方法包括:提供待表征试样,最上层为InGaAs层,构成伪MOS结构;基于第一衬垫、第二衬垫、第三衬垫及第四衬垫测试方块电阻、测试区电阻,并基于测试结构及电流电压关系实现InGaAs基伪MOSFET的几何因子的表征。本发明通过测试方法过程中测试方式的设计,可以实现InGaAs基的伪MOSFET的几何因子表征,表征方式简单,表征系统结构简单。

著录项

  • 公开/公告号CN112461900B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 微龛(广州)半导体有限公司;

    申请/专利号CN202110150684.3

  • 申请日2021-02-04

  • 分类号G01N27/04(20060101);

  • 代理机构31219 上海光华专利事务所(普通合伙);

  • 代理人佟婷婷

  • 地址 510663 广东省广州市高新技术产业开发区科学大道18号A栋十一层1101单元

  • 入库时间 2022-08-23 11:39:44

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