公开/公告号CN109890497B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-02
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社日立高新技术;
申请/专利号CN201680090509.7
申请日2016-12-09
分类号G01N27/26(20060101);B01J19/08(20060101);B82Y5/00(20110101);C12M1/00(20060101);B81C1/00(20060101);
代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;
代理人金光华
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 11:33:45
机译: 纳米孔的形成方法,纳米孔的形成装置以及生物分子测定装置
机译: 纳米形成方法,纳米形成装置和生物分子测定装置
机译: 纳米孔形成方法,纳米孔形成装置及生物分子测定装置