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具有界面垂直磁各向异性的多膜层结构及磁随机存储器

摘要

本发明实施例提供了一种具有界面垂直磁各向异性的多膜层结构及磁随机存储器,整个多膜层结构在生长完成后经历500℃以上的温度退火,确保了良好的热稳定性。在退火过程中缓冲层的金属铬结晶促进了整体结构的晶向形成。同时由于退火,在铁磁层和第一氧化物势垒层之间形成了电荷俘获,增强了两层之间由于层间耦合而形成的界面垂直磁各向异性。由于各膜层均在纳米量级,得到的多膜层结构还具有尺寸小的优点。本发明实施例提供的磁随机存储器中的磁隧道结为具有界面垂直磁各向异性的多膜层结构,可以使磁随机存储器的存储密度变高。

著录项

  • 公开/公告号CN110098318B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京航空航天大学;

    申请/专利号CN201910389296.3

  • 发明设计人 聂天晓;李晓辉;查丹;

    申请日2019-05-10

  • 分类号H01L43/00(20060101);H01L43/02(20060101);H01L43/12(20060101);

  • 代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人王庆龙;苗晓静

  • 地址 100191 北京市海淀区学院路37号

  • 入库时间 2022-08-23 11:20:21

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