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公开/公告号CN109968203B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-30
原文格式PDF
申请/专利权人 哈尔滨工业大学;
申请/专利号CN201910273117.X
发明设计人 张飞虎;任乐乐;廖德锋;王乙任;
申请日2019-04-04
分类号B24B53/02(20120101);B24B53/14(20060101);
代理机构23109 哈尔滨市松花江专利商标事务所;
代理人宋诗非
地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
入库时间 2022-08-23 11:19:43
机译: 半导体加工用抛光装置中的抛光垫修整器
机译: 光盘装置中的聚焦误差信号调整方法及光盘装置
机译: 在化学机械抛光中同时进行垫修整和晶片抛光的方法和装置
机译:通过基本概念与非线性源术语抛抛抛抛抛抛抛抛抛抛抛抛抛光术不等式的统一规范的新误差
机译:一种均匀的收敛搭配方法,用于奇异扰动抛物抛抛抛抛抛抛抛光反应 - 扩散问题
机译:齿形磨削加工过程中的误差补偿(第三次报告,带有砂轮修整误差的斜齿轮磨削加工的误差补偿方法)
机译:通过在Ebara 300 mm F-REX抛光机上进行修整来模拟CMP抛光垫表面形貌的数学模型
机译:用于微立铣刀制造的单晶金刚石和陶瓷的基于心轴的抛光:超高速微加工主轴的抛光特性和误差运动分析。
机译:磁流变抛光技术对钛管进行环形表面微加工
机译:外太阳系 - II中的近抛抛抛光通量 - II
机译:光盘系统中错误率和误差分布的监测和报告技术