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用于等离子体处理系统中的改进的折流板的方法和设备

摘要

本申请涉及用于等离子体处理系统中的改进的折流板的方法和设备。本发明提出了一种用于等离子体处理器系统的改进的折流板,其中,折流板的设计和制造能够有利地在处理空间中提供均匀的处理等离子体,并且对折流板的腐蚀程度最小。

著录项

  • 公开/公告号CN100380564C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN03822206.X

  • 发明设计人 西本伸也;三桥康至;中山博之;

    申请日2003-09-29

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人李春晖

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-04-09

    授权

    授权

  • 2005-12-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-10-12

    公开

    公开

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