基底层、具有基底层的研磨垫及研磨方法

摘要

本发明提供一种基底层、具有基底层的研磨垫及研磨方法。研磨垫包括研磨层以及基底层。基底层配置于研磨层下方，系为立体三维织物，包括上织物层、下织物层以及支撑织物层。支撑织物层位于上织物层以及下织物层之间，其中，上织物层与下织物层分别是由多条第一组纱及多条第二组纱互相交织而形成，支撑织物层是由多条支撑纱所形成且穿梭配置于上织物层与下织物层之间，以使上织物层与下织物层之间具有空间。